Proteusはフルチップでの近接効果補正、補正で使用されるプロセス・モデルの構築、そして補正前後のICレイアウト・パターンの近接効果解析を実行する包括的な環境を提供致します。Proteusの持つ高度なプログラム制御機能と柔軟性によって、マスク制約に基づいた最適なOPC処理を実現します。
Proteusの主な利点
- Proteusは、特許を持つ高速モデリング・アルゴリズムと効率的な階層管理能力が統合された補正処理エンジンを搭載。信頼性が高く、高精度で、出力ファイル・サイズが最適化されたフルチップの補正を合理的な時間内で実行します。
- 画期的なモデル開発ツールProGenにより、ほとんどの形式のモデル定義、実測値データへの適合、そして他のマスク・シンセシス製品によって使用されるコンパクトかつ効率的なモデルの生成を実行することができます。
- Prospectorでは対話的な操作環境を用いて、モデルとパターンの相互作用の検証/測定/比較、そして他のツールへの出力を実行する事ができます。
Proteusの補正エンジン
チップデザインの縮小化に伴い、光リソグラフィー技術を用いた光学近接効果補正（OPC）の役割がますます重要になっています。Proteusは、レイアウトの幾何学的な修正を実行し、製造プロセスで生じる系統的な歪みを補正。歩留まりを向上させ、ディープ・サブミクロン設計の実現を継続的に支援します。また広範囲に及ぶプログラム制御機能によって、事実上あらゆるタイプの光学近接効果や、フォト・レジスト、エッチング工程、そして下地形状の影響により生じた歪みに対処できます。
制御可能な補正精度
二次元平面の配置において「完璧な」補正を行なうには、連続したパターンの変化が必要となります。補正の精度と、パターンのグリッド・サイズやファイルサイズのようなマスク製作上の制限との妥協点を決定するために、補正の「積極度」、粗さ、そして許容誤差を制御するための数々のオプションが提供されています。コーナーやライン端、そして他の二次元構造に適用される処理は、レシピ制御スクリプト言語によって完全にカスタマイズできます。
複数レイヤーの取り扱いについて
Proteusは、複数のマスク・レイヤーによる影響を考慮し、様々な手法を用いて補正を実行します。一つの例としては、どの領域が補正されるべきかを選択するための「参照レイヤー」を使用する事が挙げられます。より高度な方法では、下層レイヤー形状の影響をモデル化して補正計算を実行する事もできます。
分配処理
高速処理に向けProteusは、分散ネットワーク処理をサポートしています。補正処理のタスクを幾つかのCPUに分散させる事で、予定通りの開発期間を達成する事ができます。
マスク・レイアウト加工技術
Proteusは、数々のマスク・レイアウト加工技術を幅広くサポートしています。レシピ・スクリプト言語の指定により、補正されたパターンに任意の補助的なパターンを生成・配置する事ができます。この補助的なパターンは、解像度以下のアシスト・パターンとして、またセリフやエンド・キャップの修正、エッチングのダミー・パターンとして使用する事ができます。また、Proteusは多くの位相シフト・マスク（PSM）補正をサポートしています。位相マスク・レイヤーとクロム・マスク・レイヤーに対して同時に実行される補正のような、相互作用を含む補正も容易に実行できます。このような補正を行なう場合には、ベクター・プロセスモデルが用いられています。
フレキシブルなユーザー・インターフェイス
ユーザーが、補正プロセス全体を簡単に、なおかつ可能な限り制御できるユーザー・インターフェイスを保つために、Proteusはいくつかのカスタマイズ・レベルを提供しています。レシピ・スクリプトを直接修正するのが最も詳細なレシピのカスタマイズです。レシピ・スクリプト言語によって、グラフィカル・ユーザー・インターフェイスもカスタマイズが可能であり、そのためユーザー指定のレシピを用いた場合も、手軽にかつ容易に使用できるインターフェイスを介した作業を実行できます。
補正作業は簡単なユーザー・インターフェイスで制御できます
デザイン・ルール・チェック
補正されたマスク・パターンがマスク製作上での制約を確実に満たすために、マスク設計ルールを補正中に検査する事ができます。設計ルールからの潜在的な逸脱が発見されると、要求を満たすように補正が修正されます。
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設計ルールは補正中にも
チェック出来ます
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解像度以下の補助パターンを自動的に生成し、その後生成した補助パターンの影響を考慮して補正を行った結果
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ProGen-モデル開発ツール
ProGenは、Proteusでは近接効果補正用に、またProspectorではリソグラフィ・シミュレーション用に用いられるビヘイビア・モデルを構築します。ProGenの最適化された環境は下記をサポートします。
- IC業界で共通に使用される実測モデル形式
- 一般的なモデル式言語を使用した新しいモデル形式の定義と検証フレームワーク
- 実測テスト一式の定義と自動的に配置された全てのテストポイントでのモデリングを実行するスプレッド・シート・ライクなデータ管理機能
- ユーザー定義のコスト関数によって、「自由な」モデル・パラメータを実測データにフィッティングする回帰分析ツール
- 直接的にモデル特性、CDの変動、そして統計的なフィッティングの解析を実行するプロットツール
- マスク・シンセシスツール郡へのシームレスな移行のための、コンパクトで効率的な記述へのモデル変換
- 新しいモデルフォームの作成と調査
